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超純水洗浄処理によるGaAs表面の洗浄化 X線光電子分光法

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低エネルギーでの表面処理技術の一つとして超純水によるGaAs表面の洗浄化が検討され、XPS分析により溶存酸素濃度が低いほど酸化物成分が容易に除去できることがわかりました。試料をグローブボックス内で処理し、不活性雰囲気にしたトランスファーベッセルを用いて、大気に試料表面をさらすことなくXPS装置に移動させ、移動中の表面汚染、酸化をできるだけおさえた条件で測定しました。

超純水洗浄処理によるGaAs表面の洗浄化


データ提供:NTT
参考文献:J. Appl. Phys. 75, 1798(1994)


 

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