NTT-AT 先端技術商品紹介サイト Leading-Edge Key Technology Product Information
ホーム > 材料分析サービス > 物理分析 > 構造解析 > 極薄膜の構造評価 斜入射非対称X線回折法

極薄膜の構造評価 斜入射非対称X線回折法

営業部門 TEL 046-270-2075 (受付9:00~17:00)土日祝日年末年始を除く平日
お問い合わせフォーム

通常のX線回折法では、試料に入射するX線と試料で回折したX線の角度が等しいため、大きな回折角度で測定する場合、試料中深くX線が侵入します。このため試料表面部のみの情報が得られない、また、基板上の薄い膜を測定する場合、基板からの回折X線の影響が大きく、膜からのみの情報が得られないなどの問題がありました。そこで、X線を試料表面すれすれに入射させ、試料表面部のみにX線を侵入させて表面部のみの情報を得ることが行われるようになっています(斜入射非対称X線回折法-薄膜測定法ともよばれてます)。

下図は厚みが10nm程度のNi-Fe薄膜を通常のX線回折法と斜入射非対称X線回折法で測定した結果を比較したものです。通常法では、基板からの回折X線の影響が大きく、膜からの回折X線の測定が困難ですが、本方法では基板の影響がなく膜からのみの回折ピークが得られています。

 

通常X線回折法


 

製品一覧

閉じる

サービス一覧

材料分析サービス

材料分析サービス

閉じる

課題解決のご提案一覧

閉じる

ダウンロード一覧

閉じる