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全反射蛍光X線分析 (TRXF: Total Reflection X-ray Fluorescence)

営業部門 TEL 046-270-2075 (受付9:00~17:00)土日祝日年末年始を除く平日
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半導体材料メーカーの方へ

半導体製造プロセスに必要な清浄度の管理評価にお応えします! 

半導体製造プロセスでの汚染を防ぐために・・・

半導体の製造において清浄度は品質を決める重要なポイントです。

そこで使う製造機器も、洗浄し、清浄であることを確認しなくてはいけません。

迅速に、高感度に、かつ多くの元素を検出できる分析方法が必要です。

こんなことでお困りなら、NTT-ATの全反射蛍光X線分析を!

NTT-ATの全反射蛍光X線分析を!

現在の分析方法で、こんなお悩みはありませんか?

  • 分析に時間がかかりすぎる。
  • 感度が足りない。
  • 汚染箇所の特定が難しい。
  • 検出できる元素が少ない。

・ナトリウム(Na)、モリブデン(Mo)が対象外。
・異種基板や膜付基板が対象外。

NTT-ATの全反射蛍光X線分析なら

■迅速

サンプル受付後、1~2営業日での対応が可能です。

高感度

  • 109atoms/cm2レベルの高感度。
  • 非破壊・非接触で煩雑な前処理が不要なため、コンタミネーションを抑制。
  • 面内分布を取ることで、汚染箇所を特定。

多元素

  • 多元素同時分析。(※)
  • 異種基板(サファイア、GaAs、ガラス)や膜付基板(有機膜、金属膜等)にも対応

※検出元素に制限があります。ご相談ください。

 

分析の仕組み

装置概要
図1 装置概要

 

高感度、多元素分析の理由はトリプルビーム

3種類のX線源(トリプルビーム)により、Wビームでは高感度に測定できないナトリウム(Na)、モリブデン(Mo)等の元素も高感度に評価する事が出来ます。

異なるビームでも同じ元素を測定する事が出来ますが、感度や不純ピークによる干渉を考慮し、最適なビームを選択する事が出来ます。

全反射蛍光X線分析の検出下限値(シリコンウエハ)
図2 全反射蛍光X線分析の検出下限値(シリコンウエハ)

 

測定可能元素
Crビーム Na~Ti及びGa~Ba (特にNa~Al、Pに対して効果的です)
Wビーム Al~Zn及びAs~Hf (特にK~Znに対して効果的です)
Agビーム S~U (特にAs、Zr、Mo、Ta、W、Br、Pt、Auに対して効果的です)

 

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