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前工程(洗浄・酸化・アニール)

半導体プロセスサービス

営業部門 TEL 046-270-2075 (受付9:00~17:00)土日祝日年末年始を除く平日
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洗浄

有機洗浄、酸アルカリ洗浄(RCA洗浄等)の各種洗浄を承ります。

有機洗浄
アセトン洗浄、アルコール洗浄
酸アルカリ洗浄 硫酸過酸化水素水洗浄(ピラニア洗浄、SPM洗浄)
アンモニア過酸化水素水洗浄(APM洗浄、SC1洗浄)
塩酸過酸化水素水洗浄(HPM洗浄、SC2洗浄)
希弗酸洗浄(DHF洗浄)
  • 酸・アルカリ洗浄は、残膜等の除去を主な目的としております。
  • 洗浄は、浸漬式です。洗浄後の乾燥は、N2ブロー乾燥及びスピンドライ法です。

酸化・アニール

電気炉による酸化、アニールを承ります。

酸化
ウエット酸化、ドライ酸化
アニール 800~1000℃の高温アニール(フロントエンド・プロセス:FEPL用)
400℃程度の低温アニール(バックエンド・プロセス:BEPL用)
  • アニールの雰囲気は窒素ガスです。

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