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ナノ加工サービス・微細加工サービス

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EB描画(電子線描画)

100kV 高加速EB描画装置
■100kV 高加速EB描画装置
  • 可変成型ビーム、ポイントビーム
  • Si、石英、絶縁膜、各種金属膜への描画
  • 20nmの極微細レジストパタン形成
  • 円描画、FZPパタン etc.
  • 重ね合せ描画

■パタン形成例

20nm径ホールパタン
20nm径ホールパタン
円周パタン
円周パタン

レジストパタン形成

■フォト露光

  • Si、石英、ガラス基板
  • 厚膜パタン(レジスト厚10μm超)
  • 導波路他の曲線パタン、円周パタン
  • 重ね合せ露光

■パタン形成例

半球パタン
半球パタン
円筒パタン
円筒パタン

エッチング加工

エッチング加工

■ドライエッチング

  • 20nmの極微細パタン形成
  • 金属パタン・・・Ta、Au、Pt、Cr、パーマロイ etc.
  • 高屈折率膜パタン・・・Ta2O5 etc.
  • 炭素系膜パタン・・・グラッシーカーボン、SiC
  • 多層膜パタン・・・SiO2/Ta2O5 etc.
  • 円錐パタン・・・Si
  • ステンシル加工(貫通孔)・・・SiC、SiN、Ta

■ウェットエッチング

  • 異方性エッチング
  • V溝、ブレーズ、メンブレン化・・・Si

■イオンビームエッチング

金属膜へのピンホール加工 など

薄膜形成

薄膜形成
■CVD 装置
  • 低応力SiC膜・SiN膜:メンブレン用など
  • 低温SiO2膜:樹脂上への成膜可

■スパッタ装置

  • 低応力Ta膜:メンブレン上へのパタン形成、X線吸収体用、高融点
  • その他金属膜:Au、TiN、SiO2、Si、パーマロイ

■蒸着装置

金属膜:Au、Pt、Ti、Crなど

 

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