Cetakan untuk nanoimprint

Kami menyediakan pola halus orde nanometer yang digunakan di departemen penelitian dan pengembangan seperti nanoteknologi, optik, dan bioteknologi. Cetakan nanoimprint kami memiliki pengalaman dan pencapaian lebih dari 20 tahun. Ukuran pola minimum adalah 20nm. Kami mendukung berbagai substrat seperti kuarsa, Si, dan Ni.

Berbagai jenis garis & ruang kuarsa, pola titik dan lubang tersedia untuk bahan cetakan.

Teknologi nanoimprint sedang diterapkan ke berbagai bidang dengan kecepatan tinggi. Kami menyediakan cetakan nanoimprint yang diperlukan dalam berbagai tahap penelitian, pengembangan, aplikasi, dan komersialisasi.