マグネトロンスパッタリング、電子ビーム蒸着、メッキなどの成膜方法を使用して、薄膜形成サービスを行っています。
作製した薄膜は、光、バイオ、X線などさまざまな分野で用いられています。
また、複数材料の薄膜を数層から数百層積層する多層膜を利用したX線反射鏡、深さ方向分析用標準試料なども取り扱っています。
薄膜形成サービス
スパッタリング、蒸着等により各種薄膜を形成いたします。
基板サイズはφ8インチ程度まで対応いたします。 また、各種特殊基板にも対応いたします。
堆積可能な材質
周期律表の■色の各種材料(元素単体、化合物、合金)の成膜を行っています。
その他、掲載されていない材料についても検討可能です。
薄膜評価例
接触式段差計やX線回折による膜厚評価、反射率・透過率評価など、各種評価を行っています。
X線回折、蛍光X線、AES、XPS、SIMS、TEM、AFMなど各種薄膜分析も承ります。
複数材料による積層膜例