EUV(極端紫外線) / X線光学システム設計・製作

種々の集光光学系・光学システムを設計・作製致します。
シュバルツシルト集光光学系、K-Bミラー、回転楕円面集光ミラー、高次高調波用光学システムなど

以下のX線光学部品をご利用頂けます。

ステージ・チャンバーや制御・測定プログラムなど実験に必要な各種物品もご提供させて頂きます。
作製したシステムの実験系据付及び光学調節も致します。
その他各種実験システム・実験用部品の設計・製作・受託開発承ります。
お気軽にお問合せください
 

EUV/軟Ｘ線用シュワルツシルト集光光学系　（Schwartzschild Optics）

• ご提供致していますシュワルツシルトミラーは、レーザプラズマＸ線源（LPP）・放射光（SR光）等から発生するEUV（極端紫外線）光・軟Ｘ線を集光する光学系や、顕微鏡、望遠鏡などの結像光学系に使用されています。
• 凹凸面鏡へは, ご使用の波長に合わせましてEUV/軟X線多層膜をコーティング致します。
• シュワルツシルト光学系を用いた顕微鏡や分析装置などの光学システムも設計・製作致します。

 

K-B（Kirkpatrick-Baez）ミラー集光システム（K-B mirror focusing system）

• 放射光、 レーザプラズマＸ線源から発生したEUV光・軟Ｘ線・硬Ｘ線を集光するために使用されています。
• K-Bミラー集光システムの設計・製作致します。
• K-Bミラー用基板へのX線多層膜コーティングも行い致します。

 

高次高調波用光学システム・光学素子（Optics for HHG）

• レーザー基本波と高次高調波（High-harmonic generation）を用いたポンププローブ測定・相互相関測定・高次高調波の自己相関測定などへの応用に最適な、高次高調波用の光学システムと光学素子を設計・製造いたします。
• 高次高調波用光学システムには、X線/EUVフィルタ　・透過型回折格子　・EUVミラーなどの光学素子がご利用いただけます。

 

EUV光/レーザー光集光用ダブルミラー

• レーザー光とEUV光の混じった光を、空間的にEUV光とレーザー光に分割する平坦性に優れたフィルタです。
• 下記写真は、中心ではEUV光が透過し、周辺でレーザー光が透過するタイプです。
• 特殊形状のフィルタホルダの設計・製作も承ります。

 

レーザー光/EUV光空間分割型集光用ダブルミラー

• 中心でEUV光を、周辺でレーザー光を反射するミラーです。
• 駆動機構を用いて周辺ミラーと中心ミラーで光路差を生じさせることにより、レーザー光とEUV光の間に時間遅延を生じさせることが可能になります。

集光用ダブルミラー
（中心：EUV集光用Mo/Si多層膜コーティング、周辺：レーザー光集光用Ag膜コーティング）

 

実験用部品製作例