- タンタル(Ta)製のＸ線吸収体パタン
- SiNおよびSiCメンブレン構造
- 用途に合せて超高解像度タイプ、厚膜高解像度タイプと標準タイプの3タイプを用意
仕様
| 項目 |
標準タイプ XRESO-100 |
厚膜高解像度タイプ XRESO-50HC |
超高解像度タイプ XRESO-20 |
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|---|---|---|---|---|
| 基板 | 材質・外形 | Si 10mm角 | ||
| 厚さ | 1㎜ | 0.625mm | ||
| メンブレン | 材質・厚さ |
Ru 20nm SiN 2μm |
Ru 20nm SiC 200nm SiN 50nm |
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| 領域 | 1mm角 | |||
| 配置 | 基板中心部 | |||
| パタン |
吸収体材料 ・膜厚 |
Ta 1.0μm | Ta 500nm | Ta 100nm |
| 最小寸法 | 100nm | 50nm | 20nm（放射状パタン） | |
| パタン領域 | 250μm×350μm角 | 300μm角 | ||
外観説明図（高解像度タイプ）
(a)X線チャート部 (b)Ru/SiNメンブレン (c)Si基板 (d)Ta吸収体
超高解像タイプ：XRESO-20
| チャートSEM像 | パターンレイアウト |
| 100nmホール（図2） | 全体図 |
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| 50nm L&S（図3） | |
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| 放射状パタン（図4） | 20nm パタン部（図1） |
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標準タイプ：XRESO-100
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パタンレイアウト
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厚膜高解像度タイプ：XRESO-50HC
| チャートSEM 像 | |
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放射状パタン 図（1）
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50nmL&S 図（2）
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X線検査装置による撮像 「(株)東研製 TUX-5000F」 ↓ ↓ ↓ |
パタンレイアウト |
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＊株式会社東研様ご提供 |
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※記載された仕様等は製品改良の為お断りなく変更する事がありますのでご了承下さい。
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