特徴
NTT-AT社製のX線タルボイメージング用位相格子と吸収格子は、高アスペクトSiエッチング技術とAuメッキ技術をもとに作製されており、従来のフォトレジスト格子と比較して十分に高いX線照射耐性を実現します。 また、デブリの発生による測定環境の悪化を低減いたします。- 位相格子:低ラフネス・高垂直性を持つSi構造体
- 吸収格子:低ラフネス・高垂直性を持つSi構造に埋め込まれたAuメッキ吸収体
標準品仕様
吸収格子 | 位相格子 | |
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材料 | 吸収部:Au, 透過部:Si | 位相変調部:Si |
メンブレン | Si、厚さ 50 μm | Si、厚さ 50 μm |
ピッチ/高さ | 3 μm / 10 μm | 2 μm / 20 μm |
最大領域 | 10 mm 角 | 40 mm 角 |
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