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Nitrid-Halbleiter-Epitaxialwafer

Wir werden zur Realisierung umweltfreundlicher GaN-Leistungsbauelemente beitragen. NTT-AT trägt mit seiner Nitrid-Halbleiter-Epitaxie-Wafer-Fertigungstechnologie zur frühen Verwirklichung der Energieeinsparung bei.

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