Hierbei handelt es sich um eine SiC- oder SiN-Dünnfilmmembran, die als Standardprobenhalter für die Röntgenanalyse und Elektronenstrahlanalyse (REM, TEM) verwendet wird.
Es kann wie unten gezeigt an Ihre Bedürfnisse angepasst werden.
![SiN-Membran](https://keytech.ntt-at.co.jp/nano/p0021_5.jpg)
Würfelform
Es kann wie unten gezeigt an Ihre Bedürfnisse angepasst werden.
- Bildung eines dünnen Metallfilms zur Verwendung als Dünnfilmtarget oder Strahlteiler.
- Schlitz-/Nadellochbildung zur Verwendung als Strahlformungselement.
- Unter 50 nm dicke Membran (SiN) zur Verwendung als Übertragungselement für weiche Röntgen- oder Elektronenstrahlen
Standardproduktspezifikationen
SiC | SiN (isolierend) | |
---|---|---|
Material | Amorph oder polykristallin | Amorphes SiN |
Dicke | 100 nm - 2 μm | 50 nm - 2 μm |
Fenstergröße | 0,1 mm bis 10 mm im Quadrat (abhängig von der Foliendicke) | |
Spangröße schneiden | 2.1 mm - 20 mm 角 | |
Rahmenstärke | 0.2 mm - 0.625mm | |
Substrat | Durchmesser 4 Zoll Si-Substrat | |
Möglichkeit | Metallbeschichtung, Schlitz-/Lochbildung |
Verwendungszweck
- Probenhalter für Röntgen-, Elektronenstrahl- und EUV-Analyse
- Flüssiges Zellfenstermaterial für chemische und biologische Analysen
- Vakuumfenster
- Trägermaterial für ein optisches Röntgenelement vom Transmissionstyp
Produktionsbeispiel
![SiN-Membran](https://keytech.ntt-at.co.jp/nano/p0021_5.jpg)
Würfelform
![SiN-Membranwafer](https://keytech.ntt-at.co.jp/nano/images/p0021_SiC_membrane_wafer.png)
Wafer-Typ