Hierbei handelt es sich um eine SiC- oder SiN-Dünnfilmmembran, die als Standardprobenhalter für die Röntgenanalyse und Elektronenstrahlanalyse (REM, TEM) verwendet wird.
Es kann wie unten gezeigt an Ihre Bedürfnisse angepasst werden.
Würfelform
Es kann wie unten gezeigt an Ihre Bedürfnisse angepasst werden.
- Bildung eines dünnen Metallfilms zur Verwendung als Dünnfilmtarget oder Strahlteiler.
- Schlitz-/Nadellochbildung zur Verwendung als Strahlformungselement.
- Unter 50 nm dicke Membran (SiN) zur Verwendung als Übertragungselement für weiche Röntgen- oder Elektronenstrahlen
Standardproduktspezifikationen
SiC | SiN (isolierend) | |
---|---|---|
Material | Amorph oder polykristallin | Amorphes SiN |
Dicke | 100 nm - 2 μm | 50 nm - 2 μm |
Fenstergröße | 0,1 mm bis 10 mm im Quadrat (abhängig von der Foliendicke) | |
Spangröße schneiden | 2.1 mm - 20 mm 角 | |
Rahmenstärke | 0.2 mm - 0.625mm | |
Substrat | Durchmesser 4 Zoll Si-Substrat | |
Möglichkeit | Metallbeschichtung, Schlitz-/Lochbildung |
Verwendungszweck
- Probenhalter für Röntgen-, Elektronenstrahl- und EUV-Analyse
- Flüssiges Zellfenstermaterial für chemische und biologische Analysen
- Vakuumfenster
- Trägermaterial für ein optisches Röntgenelement vom Transmissionstyp
Produktionsbeispiel
Würfelform
Wafer-Typ