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Röntgen-Fresnel-Zonenplatte

Wir bieten hochstrahlungsbeständige Röntgen-Fresnel-Zonenplatten aus SiC-Membran und Ta-Absorber.

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Besonderheit

Bild
SEM-Bild der Fresnel-Zonenplatte
Im Röntgenbereich, wo der Brechungsindex des Materials etwa 1 beträgt, ist es im Gegensatz zu sichtbarem Licht nicht möglich, das Licht mit einer konvexen Linse zu fokussieren, daher wird als Fokussierung eine Fresnel-Zonenplatte (FZP) verwendet Element.
Das FZP von NTT-AT verwendet ein Ta-Muster mit hoher Vertikalität als absorbierendes Material und eine SiC-Membran mit hoher Röntgenstrahlungsbeständigkeit als Haltematerial und wird häufig in Synchrotronstrahlungsanlagen eingesetzt.

Produktionsbeispiel

Produktionsbeispielbild
Ultrafeines FZP: Durchmesser 250 µm, Ta-Filmdicke 200 nm, Breite der äußersten Zone 50 nm, SiC-Membrandicke 2,0 µm
Produktionsbeispielbild
Produktionsbeispielbild

FZP mit hohem Aspekt: Durchmesser 100 µm, Dicke des Ta-Films 2 µm, Breite der äußersten Zone 200 nm, Dicke der SiN-Membran 2,0 µm

Typische Spezifikationen

Wir entwerfen entsprechend Ihrer gewünschten Energie, Brennweite, Auflösung usw.

  Typische Spezifikationen
Mindestbreite und Seitenverhältnis der äußersten Zone 50 nm (Seitenverhältnis 4), 200 nm (Seitenverhältnis 10)
maximaler Durchmesser 2 mm
Membranmaterial SiC oder SiN, 0,2 µm - 2 µm
Absorbermaterial Ta, 0.1 µm - 2.0 µm
Außenmaße des Si-Rahmens 10 mm x 10 mm x 1 mm Dicke
Strukturzeichnung
(a) Röntgen-FZP-Abschnitt (b) SiC- oder SiN-Membran (c) Si-Substrat (d) Ta-Absorber
 

Optionale Teile

Foto
Mittelbalkenanschlag
Absorber: Au, 30 µm dick, Membran: SiC
Foto
Lochkamera
Material: Pt, 100 µm dick, Lochdurchmesser: 50 µm

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