Moule Nanoimprint personnalisé

Technologie de microfabrication de moules Nanoimprint et savoir-faire de fabrication

■ Matériau du moule

Des matériaux tels que le quartz, le silicium, le SiC et le Ni peuvent être spécifiés en fonction de la nanoimpression du client.

■ Extrêmement fin

Du motif minimum de 20 nm à l'ordre du μm. Des rapports hauteur/largeur élevés sont également possibles.

■ Motif

Nous pouvons tout gérer, des tableaux répétés de modèles uniques aux modèles complexes tels que les modèles de circuit.

■ Modèle à plusieurs étapes

Nous proposons également des motifs étagés à plusieurs niveaux pour les hologrammes, etc.

■ Forme tridimensionnelle

Diverses formes telles que des réseaux de microlentilles minuscules (MLA), des corps antireflets (structures en œil de papillon) et des motifs de pyramides carrées inversées sont traitées.

■ Précision de forme élevée

La forme de traitement est également évaluée comme une arête vive. Nous prenons également en charge les microstructures coniques et coniques inversées par le contrôle des parois latérales. Contactez nous s'il vous plait.

Flux de demande de production de moules à nanoimpression

N'hésitez pas à nous contacter

La consultation préalable est très importante pour les moules personnalisés. Tout d'abord, veuillez nous contacter avec vos souhaits et vos images. Nous répondrons avec soin aux consultations et questions détaillées.
 

Moule personnalisé Exemple de traitement de motif fin

Il s'agit d'un exemple de la microfabrication par NTT-AT de moules de nanoimpression de différentes formes et tailles. N'hésitez pas à nous contacter concernant le motif souhaité, le type de substrat, etc.

Motif ultra-fin	modèle de rapport d'aspect élevé
Point de pas de 36 nm	format d'image 10
Substrat : quartz, silicium, SiO2/Si, Ni, SiC Pas minimum du motif : environ 35 nm (le pas minimum varie en fonction du substrat et du motif.) Profondeur : à partir de 20nm Motifs : L&S, points, trous, anneaux	Substrat : Silicium Pas de motif : à partir de 50 nm Profondeur : à partir de 100nm Motif : Ligne, L&S

modèle à plusieurs niveaux	Type de rainure en V, motif de type Blaze
Modèle à 8 niveaux	Rainure en V au pas de 1 μm
Substrat : quartz, silicium, électroformage SiO2/Si, Ni Motif minimum : à partir de 250 nm Nombre de niveaux : Jusqu'à 8 niveaux Profondeur de niveau : à partir de 50 nm Profondeur totale : jusqu'à 20 μm	Substrat : Silicium Pas de motif : à partir de 100 nm Profondeur : à partir de 50nm

Motif conique (structure en œil de papillon)	Motif sphérique (microlentille)
Modèle à 8 niveaux	1 μm, zag 0,3 μm
Substrat : Quartz, Ni électroformé Pas de motif : à partir de 200 nm Profondeur : 100 à 1000nm Tableau : tableau carré, tableau triangulaire, tableau aléatoire	Substrat : quartz, silicium, SiO 2 /Si, Ni électroformé Pas de motif : 1 à 250 nm Forme : Sphérique Tableau : tableau carré, tableau triangulaire, tableau aléatoire

modèle de pyramide quadrangulaire	Motif Fukhori
tableau de modèle de pyramide carrée	Motif cylindrique de 40 μm de hauteur
Substrat : Silicium Pas de motif : à partir de 500 nm Profondeur : à partir de 300nm	Substrat : Quartz Profondeur : jusqu'à 100 μm