caractéristique
Miroir multicouche Mo/Si
Nous fournissons des miroirs EUV qui réfléchissent la lumière EUV avec une énergie photonique de 10 eV - 1 keV (longueur d'onde 120 nm - 1,2 nm) avec un rendement élevé. Ce miroir à bande d'énergie, également appelé rayons X doux ou lumière XUV, est utilisé dans un large éventail de domaines tels que les applications industrielles telles que la lithographie EUV, la recherche physique et chimique à ultra-haute vitesse utilisant des harmoniques d'ordre élevé, les applications d'astrophysique, et l'observation du plasma aux rayons X mous.
Les miroirs à film multicouche sont principalement utilisés pour l'incidence directe, et les miroirs à film monocouche sont principalement utilisés pour l'incidence oblique.
Les miroirs à film multicouche sont principalement utilisés pour l'incidence directe, et les miroirs à film monocouche sont principalement utilisés pour l'incidence oblique.
Exemple de conception
Miroir multicouche Mo/Si, angle d'incidence 0 degré
Miroir monocouche Ru, angle d'incidence 80 degrés
- Cliquez ici pour des exemples de conception de miroirs à film multicouche dans chaque plage d'énergie
- Cliquez ici pour des exemples de conception de miroir à film monocouche dans chaque plage d'énergie
Spécifications typiques
Nous concevrons la forme et le revêtement du substrat en fonction de votre demande.
| Spécifications typiques | |
|---|---|
| Taille maximum | Diamètre 3mm - 450mm |
| forme de miroir | Plane, Concave, Cylindrique, Parabolique, Sphéroïdale, Toroïdale |
| matériau multicouche | Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg, W/B4C |
| matériau monocouche | Ru, B4C, C, Ni, Au |
Téléchargement de documents
| Multilayer Coating for Extreme Ultraviolet Experiments (Anglais, white paper) | 615KB | Télécharger |
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