Molde de nanoimpresión personalizado

Tecnología de microfabricación de moldes de nanoimpresión y conocimientos técnicos de fabricación

■ Material del molde

Los materiales como cuarzo, silicio, SiC y Ni se pueden especificar de acuerdo con la nanoimpresión del cliente.

■ Extremadamente fino

Desde un patrón mínimo de 20nm hasta un orden de μm. También son posibles altas relaciones de aspecto.

■ patrón

Podemos manejar todo, desde matrices repetidas de patrones únicos hasta patrones complejos, como patrones de circuitos.

■ Patrón de varios pasos

También ofrecemos patrones escalonados de varios niveles para hologramas, etc.

■ Forma tridimensional

Se procesan varias formas, como matrices de microlentes diminutas (MLA), cuerpos antirreflectantes (estructuras de ojo de polilla) y patrones de pirámide cuadrada invertida.

■ Alta precisión de forma

La forma de procesamiento también se evalúa como un borde afilado. También admitimos microestructuras cónicas y cónicas inversas mediante el control de paredes laterales. Por favor contáctenos.

Flujo de solicitud de producción de moldes de nanoimpresión

Siéntete libre de contactarnos

La consulta previa es muy importante para los moldes personalizados. En primer lugar, contáctenos con sus deseos e imágenes. Responderemos atentamente a las consultas y preguntas detalladas.
 

Molde personalizado Ejemplo de procesamiento de patrones finos

Este es un ejemplo de la microfabricación de NTT-AT de moldes de nanoimpresión de varias formas y tamaños. No dude en contactarnos con respecto a su patrón deseado, tipo de sustrato, etc.

Patrón ultrafino	patrón de alta relación de aspecto
punto de paso de 36 nm	relación de aspecto 10
Sustrato: cuarzo, silicio, SiO2/Si, Ni, SiC Paso mínimo del patrón: aproximadamente 35 nm (el paso mínimo varía según el sustrato y el patrón). Profundidad: desde 20nm Patrones: L&S, puntos, agujeros, anillos	Sustrato: Silicio Paso de patrón: desde 50nm Profundidad: desde 100nm Patrón: Línea, L&S

patrón multinivel	Tipo de ranura en V, patrón tipo blaze
patrón de 8 niveles	Ranura en V de paso de 1 μm
Sustrato: cuarzo, silicio, SiO2/Si, electroformado de Ni Patrón mínimo: desde 250nm Número de niveles: Hasta 8 niveles Profundidad de nivel: desde 50nm Profundidad total: hasta 20 μm	Sustrato: Silicio Paso de patrón: desde 100nm Profundidad: desde 50nm

Patrón cónico (estructura de ojo de polilla)	Patrón esférico (microlente)
patrón de 8 niveles	1 μm, zag 0,3 μm
Sustrato: Cuarzo, Ni electroformado Paso de patrón: desde 200nm Profundidad: 100 a 1000nm Matriz: matriz cuadrada, matriz triangular, matriz aleatoria	Sustrato: cuarzo, silicio, SiO 2 /Si, Ni electroformado Paso de patrón: 1 a 250nm Forma: Esférica Matriz: matriz cuadrada, matriz triangular, matriz aleatoria

patrón de pirámide cuadrangular	Patrón Fukahori
matriz de patrón de pirámide cuadrada	Patrón cilíndrico de 40 μm de altura
Sustrato: Silicio Paso de patrón: desde 500nm Profundidad: desde 300nm	Sustrato: Cuarzo Profundidad: hasta 100 μm