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Espejo EUV / espejo de rayos X suave

Proporcionamos espejos multicapa y espejos de una sola capa para EUV.

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画像
Espejo multicapa Mo/Si
Proporcionamos espejos EUV que reflejan la luz EUV con energía fotónica de 10 eV - 1 keV (longitud de onda 120 nm - 1,2 nm) con alta eficiencia. Este espejo de banda de energía, también llamado luz de rayos X suave o luz XUV, se utiliza en una amplia gama de campos, como aplicaciones industriales como litografía EUV, investigación física y química de ultra alta velocidad que utiliza armónicos de alto orden, aplicaciones de astrofísica, y observación de plasma de rayos X blandos.
Los espejos de película multicapa se utilizan principalmente para la incidencia directa, y los espejos de película de una sola capa se utilizan principalmente para la incidencia oblicua.

Ejemplo de diseño

グラフ
      Espejo multicapa Mo/Si, ángulo de incidencia 0 grados
 
グラフ
      Espejo de una sola capa Ru, ángulo de incidencia de 80 grados
 

Especificaciones típicas

Diseñaremos la forma del sustrato y el recubrimiento de acuerdo a su solicitud.

  Especificaciones típicas
Talla máxima Diámetro 3 mm - 450 mm
forma de espejo Plano, Cóncavo, Cilíndrico, Parabólico, Esferoidal, Toroidal
material multicapa Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg, W/B4C
material de una sola capa Ru, B4C, C, Ni, Au

Descargar materiales

Multilayer Coating for Extreme Ultraviolet Experiments (inglés, white paper) 615KB
 

Ejemplo de diseño de espejo multicapa EUV

Este es un ejemplo de diseño de un espejo multicapa para 20 eV - 150 eV (longitud de onda 60 nm - 8 nm).

Espejo multicapa Ru/B4C (150 eV - 100 eV)

para 150 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 33%, Ancho de banda: 3,1 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 31%, Ancho de banda: 1,9 eV

para 120 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 40%, Ancho de banda: 2,2 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 40%, Ancho de banda: 4,5 eV

para 100 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 41%, Ancho de banda: 3,3 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 41%, Ancho de banda: 6,6 eV

Espejo multicapa Mo/Si (95 eV - 70 eV)

para 90 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 68%, Ancho de banda: 3,5 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 67%, Ancho de banda: 6,1 eV

para 80 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 61%, Ancho de banda: 3,1 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 60%, Ancho de banda: 7,7 eV

Espejo multicapa Zr/AlSi (70 eV - 50 eV)

para 70 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 59%, Ancho de banda: 2,8 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 59%, Ancho de banda: 4,4 eV

para 60 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 49%, Ancho de banda: 3,3 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 49%, Ancho de banda: 6,3 eV

para 50 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 32%, Ancho de banda: 4,9 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 32%, Ancho de banda: 9,6 eV

Espejo multicapa SiC/Mg (45 eV - 20 eV)

para 40 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 48%, Ancho de banda: 2,5 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 48%, Ancho de banda: 3,0 eV

para 30 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 44%, Ancho de banda: 3,1 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 45%, Ancho de banda: 3,8 eV

para 20 eV

グラフ AOI=0 deg.
Reflectancia: 41%, Ancho de banda: 3,1 eV
グラフ AOI=45 deg.
Reflectancia: 46%

Especificaciones del producto estándar de espejo multicapa EUV

Modelo estandar EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f)
(a) Material de película multicapa Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg
(b) Tipo reflexivo H: alta reflectividad, N: banda estrecha, B: banda ancha
(c) Ángulo de incidencia 0 grados - 60 grados
(d) energía central 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm)
(b) Tamaño del sustrato 1025: 1 pulgada de diámetro x 0,25 pulgadas de espesor
0525: 0,5" de diámetro x 0,25" de espesor
(c) Tipo de sustrato F: plano, C: cóncavo (radio de curvatura 100 mm - 3000 mm)
 

Ejemplo de diseño de espejo de película de una sola capa EUV

Este es un ejemplo de diseño de un espejo de una sola capa para 10 eV - 1 keV (longitud de onda 120 nm - 1,2 nm).

Au espejo

グラフ AOI=75 deg.
 
グラフ AOI=85 deg.
 

Ni espejo

グラフ AOI=75 deg.
 
グラフ AOI=85 deg.
 

Ru espejo

グラフ AOI=75 deg.
 
グラフ AOI=85 deg.
 

SiC espejo

グラフ AOI=75 deg.
 
グラフ AOI=85 deg.
 

B4C espejo

グラフ AOI=75 deg.
 
グラフ AOI=85 deg.
 

Especificaciones del producto estándar del espejo de una sola capa EUV

Modelo estandar EUVSM-(a)-(b)(c)
a) Material de revestimiento Au, Ni, Ru, B4C, SiC
(b) Tamaño del sustrato 1025: 1 pulgada de diámetro x 0,25 pulgadas de espesor
0525: 0,5" de diámetro x 0,25" de espesor
(c) Tipo de sustrato F: plano, C: cóncavo (radio de curvatura 100 mm - 3000 mm)

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