rasgo
Espejo multicapa Mo/Si
Proporcionamos espejos EUV que reflejan la luz EUV con energía fotónica de 10 eV - 1 keV (longitud de onda 120 nm - 1,2 nm) con alta eficiencia. Este espejo de banda de energía, también llamado luz de rayos X suave o luz XUV, se utiliza en una amplia gama de campos, como aplicaciones industriales como litografía EUV, investigación física y química de ultra alta velocidad que utiliza armónicos de alto orden, aplicaciones de astrofísica, y observación de plasma de rayos X blandos.
Los espejos de película multicapa se utilizan principalmente para la incidencia directa, y los espejos de película de una sola capa se utilizan principalmente para la incidencia oblicua.
Los espejos de película multicapa se utilizan principalmente para la incidencia directa, y los espejos de película de una sola capa se utilizan principalmente para la incidencia oblicua.
Ejemplo de diseño
Espejo multicapa Mo/Si, ángulo de incidencia 0 grados
Espejo de una sola capa Ru, ángulo de incidencia de 80 grados
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Especificaciones típicas
Diseñaremos la forma del sustrato y el recubrimiento de acuerdo a su solicitud.
| Especificaciones típicas | |
|---|---|
| Talla máxima | Diámetro 3 mm - 450 mm |
| forma de espejo | Plano, Cóncavo, Cilíndrico, Parabólico, Esferoidal, Toroidal |
| material multicapa | Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg, W/B4C |
| material de una sola capa | Ru, B4C, C, Ni, Au |
Descargar materiales
| Multilayer Coating for Extreme Ultraviolet Experiments (inglés, white paper) | 615KB | descargar |
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