rasgo
Imagen SEM del gráfico de rayos X
La microscopía de rayos X se aplica como método de obtención de imágenes de alta resolución en diversos campos, pero para la evaluación se requieren gráficos con una resolución suficientemente alta. Los gráficos de rayos X de NTT-AT, que tienen patrones absorbentes de tantalio (Ta) de alta definición formados en membranas de SiC y SiN, se utilizan para la evaluación de la resolución en instalaciones de radiación sincrotrón en todo el mundo.
Dependiendo de su aplicación, puede elegir entre tres tipos: tipo estándar, tipo de película gruesa de alta resolución y tipo de resolución ultra alta. También ofrecemos cartas reflectantes para la región EUV.
Dependiendo de su aplicación, puede elegir entre tres tipos: tipo estándar, tipo de película gruesa de alta resolución y tipo de resolución ultra alta. También ofrecemos cartas reflectantes para la región EUV.
Especificaciones estándar del producto
artículo | Tipo estándar XRESO-100 |
Tipo de alta resolución de película gruesa XRESO-50HC |
Tipo de súper alta resolución XRESO-20 |
|
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patrón | Amortiguador | Ta, 1,0 µm de espesor | Ta, 500 nm de espesor | Ta, 100 nm de espesor |
dimensión mínima | 100nm | 50 nm | 20 nm (patrón radial) | |
área de patrón | 250 µm×350 µm |
300 µm×300 µm
|
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membrana | Ru (20 nm)/SiN (2 µm) | Ru (20 nm)/SiC (200 nm)/SiN (50 nm) | ||
sustrato | Material/forma exterior | Si, 10 mm×10 mm | ||
Espesor | 1 mm | 0.625 mm |
*Las especificaciones enumeradas están sujetas a cambios sin previo aviso debido a mejoras del producto. tenga en cuenta que.
Imagen SEM de patrón representativo
patrón radial
(XRSO-20)
(XRSO-20)
Patrón de agujeros de 100 nm
(XRESO-20)
(XRESO-20)
Patrón de línea y espacio de 50 nm
(XRSO-20)
(XRSO-20)
Patrón de línea y espacio de 50 nm
(XRESO-50HC)
(XRESO-50HC)
diseño de patrón
Ejemplo de imagen
Ejemplo de fabricación de gráficos personalizados
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