这是一种 SiC 或 SiN 薄膜膜,用作 X 射线分析和电子束分析(SEM、TEM)的标准样品架。
它可以根据您的需求进行定制,如下所示。
切割模具
它可以根据您的需求进行定制,如下所示。
- 用作薄膜靶或分束器的金属薄膜形成。
- 形成用于光束成型元件的狭缝和针孔。
- 用于作为软X线或电子束透过元件的辅助50 nm厚膜 (SiN)
标准规格
SiC | SiN (绝缘) | |
---|---|---|
材质 | 非晶或多晶 | 非晶SiN |
厚度 | 100 nm ~ 2 μm | 50 nm ~ 2 μm |
窗口尺寸 | 0.1 mm~10 mm见方 (视厚度而定) | |
切割芯片尺寸 | 2.1 mm~20 mm见方 | |
框架厚度 | 0.2 mm ~ 0.625mm | |
基板 | 直径4英寸硅基板 | |
选项 | 金属涂层,形成狭缝/针孔 |
用途
- X射线、电子束、EUV分析用样品固定器
- 化学、生物分析用液槽窗材
- 真空窗
- 透射型X射线光学元件用支撑件
生产实例
切割模具
晶圆型