如果在材料分析上有问题的话，无论什么都请咨询。

我们，NTT ADVANCE TECHNOLOGY (NTT-AT)，拥有 NTT 实验室多年积累的材料分析技术。
根据您的目的，我们通过广泛的服务阵容支持您的研究和开发。

• 分析流程
• 位置信息　
• 主要公共资格

分析方法的检测灵敏度和大小 (图像)

如果您将鼠标悬停在下图中每个分析方法的名称上，将显示该分析的目标大小。单击以转到每个分析的详细信息页面。
* 它可能无法在智能手机和平板电脑上正常工作。

• 形态观察
• 表面分析　
• 化学分析

形态观察

元件、材料的形态结构、组成评价
 

分析方法	获得的信息	应用示例	面分辨率
透射电镜 透射电子显微镜	截面构造	半导体元件的截面观察、FFT	0.2nm
FIB-SEM	内在空洞和缺陷等信息	多孔陶瓷的缺陷分析
扫描电镜 扫描电子显微镜	表面形状观察	零件缺陷部分的详细形状观察	2nm
原子力显微镜 原子力显微镜	表面微小凹凸观察	硅微粗糙度测量	数纳米

 

表面分析

任何分析都需要“技术诀窍”，包括测量条件和预处理。敝公司根据顾客的分析目的、样品的状态、分辨率和检测灵敏度等各种条件，提出最佳的分析方法，在进行反映原来样品信息的分析方面具有优势。
 

分析方法	获得的信息	应用示例	分析元素和 检测限浓度	深度分辨率和 表面分辨率
模拟人生 二次离子质谱	希望能高灵敏度地得到杂质的浓度	掺杂剂深度分布	H～U ppb 到 ppm	几到几十纳米 1～几十μm
XPS X射线光电子能谱	表面组成和化学状态	表面氧化状态，表面污染	李到你 0.1-1%	>2nm >30微米
AES 俄歇电子能谱	结构深度信息 微小零件的元素分析	薄膜结构，异物定性	李到你 0.1-1%	>2nm >15nm

化学分析

主要保有装置

分析方法	获得的信息	应用示例	分析元素	检测限浓度
ICP-MS 电感耦合等离子体质谱	高灵敏度元素分析 ・解决方案分析 ・断裂分析	硅片上的微量金属、环境中的微量金属和纯水中的杂质分析	除卤素、惰性气体、H, C, N, O以外的元素	ppt~ （取决于测量目标）
我知道了 离子色谱分析	分析高灵敏度溶液 离子的定性和定量分析	洁净室气氛调查	负离子，阳离子，有机酸离子	ppt 到 ppm （取决于测量目标）
TXRF 全反射 X 射线荧光分析	高灵敏度元素分析 ・非破坏性 ・非接触	晶圆表面污染 Si基板以外的化合物半导体（蓝宝石、SiC、GaN等）	Na~U	​109个原子/ cm2
气相色谱-质谱 气相色谱质谱	有机化合物的定性和定量分析， 结构分析	有机化合物的鉴定、结构测定、CR中的有机物分析	除卤素、惰性气体、H, C, N, O以外的元素	ppb~ （取决于测量目标）
XRF X射线荧光分析	元素分析	薄膜、粉体、块体组成定性分析	B~U	～0.01％
ICP-AES ICP发射光谱法	微量元素分析， 多元素分析	各种材料、薄膜的组成分析	除卤素、惰性气体、H, C, N, O以外的元素	ppb~ （取决于测量目标）

 

 

试验特性评价

对光通信材料的光学特性和材料的透气性、粘弹性、热物性、粉体特性进行评价和测量。

分析内容	获得的信息
气体渗透性	(气体·水蒸气) 透过度
粘弹性	动态粘弹性(拉伸、弯曲和扭转)、熔融粘弹性
热物性	材料的玻璃化转变点，热量·重量变化
粉末特性	比表面积（BET法）、粒度分布（激光衍射法/动态光散射法）、孔径分布
内毒素分析　（在新窗口中显示外部站点）	内毒素浓度

分析流程

在NTT-AT的材料分析中心，我们不仅提供分析数据，还根据客户提出的问题，提出使用最合适的方法解决问题的方法。
 

首先请咨询。

我们的分析服务帮助客户解决各种问题。
请使用右下角的联系按钮与我们联系。
*如果您的请求来自海外，由于运输或技术出口问题，我们可能无法响应您的请求。

 

位置信息

NTT厚木研发中心内（点击此处查看地图）
地址 243-0124 神奈川县厚木市森之里若宫 3-1
最近车站 本厚木站 / 爱子石田站（小田急线）
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主要公共资格

• 计量认证单位:振动加速度水平

神奈川县计量检定所33号

• 工作环境测量指定机构登录

神奈川县劳动基准局登录第 14-71 号

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