特征
菲涅耳区域平板SEM图像
在X射线区域，材料的折射率约等于1，与可见光不同，无法用凸透镜将光聚焦，因此使用菲涅尔波带片（FZP）作为聚焦元素。
NTT-AT的FZP采用垂直度高的Ta图案作为吸收材料，使用耐X射线照射的SiC膜作为保持材料，广泛应用于同步加速器辐射设施。
NTT-AT的FZP采用垂直度高的Ta图案作为吸收材料，使用耐X射线照射的SiC膜作为保持材料，广泛应用于同步加速器辐射设施。
生产实例
极微细FZP:直径250μm, Ta膜厚200 nm,最外周区宽50 nm, SiC膜厚2.0μm
高长FZP:直径100μm, Ta膜厚2μm,最外周区宽200 nm, SiN膜厚2.0μm
代表性规格
根据您要求的能量、焦距、分辨率等进行设计。
| 代表性规格 | |
|---|---|
| 最小最大区域宽度和纵横比 | 50 nm (长宽比4) ，200 nm (长宽比10) |
| 最大直径 | 2 mm |
| 薄膜材料 | SiC或SiN, 0.2μm -2μm |
| 吸收性材料 | Ta, 0.1 µm - 2.0 µm |
| 硅框轮廓尺寸 | 10毫米x 10毫米x 1毫米厚 |
(a)X射线FZP部 (b) SiC或SiN膜 (c) Si基板 (d) Ta吸收体
可选零件
中心光束停止器
吸收体：Au，30 µm 厚，膜：SiC
吸收体：Au，30 µm 厚，膜：SiC
针孔
材料：Pt，100 µm 厚，针孔直径：50 um
材料：Pt，100 µm 厚，针孔直径：50 um
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