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X射线菲涅尔区板

提供由SiC膜和Ta吸收体组成的耐高照射性X射线菲涅耳区域板

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特征

图像
菲涅耳区域平板SEM图像
在X射线区域,材料的折射率约等于1,与可见光不同,无法用凸透镜将光聚焦,因此使用菲涅尔波带片(FZP)作为聚焦元素。
NTT-AT的FZP采用垂直度高的Ta图案作为吸收材料,使用耐X射线照射的SiC膜作为保持材料,广泛应用于同步加速器辐射设施。

生产实例

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极微细FZP:直径250μm, Ta膜厚200 nm,最外周区宽50 nm, SiC膜厚2.0μm
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高长FZP:直径100μm, Ta膜厚2μm,最外周区宽200 nm, SiN膜厚2.0μm

代表性规格

根据您要求的能量、焦距、分辨率等进行设计。

  代表性规格
最小最大区域宽度和纵横比 50 nm (长宽比4) ,200 nm (长宽比10)
最大直径 2 mm
薄膜材料 SiC或SiN, 0.2μm -2μm
吸收性材料 Ta, 0.1 µm - 2.0 µm
硅框轮廓尺寸 10毫米x 10毫米x 1毫米厚
结构图
(a)X射线FZP部 (b) SiC或SiN膜 (c) Si基板 (d) Ta吸收体
 

可选零件

照片
中心光束停止器
吸收体:Au,30 µm 厚,膜:SiC
照片
针孔
材料:Pt,100 µm 厚,针孔直径:50 um

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