特征

X射线图像SEM图像
X射线显微镜作为高分辨率成像方法应用于各个领域,但需要具有足够高分辨率的图表来进行评估。NTT-AT的 X 射线图具有在 SiC 和 SiN 膜上形成的高清钽 (Ta) 吸收体图案,用于世界各地同步加速器辐射设施的分辨率评估。
根据您的应用,您可以选择三种类型:标准型、厚膜高分辨率型和超高分辨率型。我们还提供 EUV 区域的反射图表。
根据您的应用,您可以选择三种类型:标准型、厚膜高分辨率型和超高分辨率型。我们还提供 EUV 区域的反射图表。
标准规格
条目 | 标准型 XRESO-100 |
厚膜高分辨率型 XRESO-50HC |
超高分辨率型 XRESO-20 |
|
---|---|---|---|---|
帕坦 | 吸收体 | Ta, 1.0μm厚 | Ta, 500 nm厚 | Ta, 100 nm厚 |
最小尺寸 | 100 nm | 50 nm | 20 nm (径向图案) | |
模式区域 | 250 µm×350 µm |
300 µm×300 µm
|
||
薄膜 | Ru (20 nm)/SiN (2 µm) | Ru (20 nm)/SiC (200 nm)/SiN (50 nm) | ||
基板 | 材质、外形 | Si, 10 mm×10 mm | ||
厚度 | 1 mm | 0.625 mm |

(a)X线图部 (b) Ru/SiN膜 (c) Si基板 (d) Ta吸收体
※记载的规格等为了改良产品,可能会有变更。请谅解。
代表模式SEM图像

放射状图案
(XRSO-20)
(XRSO-20)

100 nm 孔图案
(XRESO-20)
(XRESO-20)

50 nm 线和空间图案
(XRSO-20)
(XRSO-20)

50 nm 线和空间图案
(XRESO-50HC)
(XRESO-50HC)
图案布局

超高分辨率型XRESO-20
①放射状图案,②100 nm孔图案,③50 nm线和空间图案
①放射状图案,②100 nm孔图案,③50 nm线和空间图案

厚膜高分辨率型XRESO-50HC
①放射状图案,②50 nm线&空间图案
①放射状图案,②50 nm线&空间图案

标准型XRESO-100
成像示例

检测设备:Token TUX-5000F,图表:XRESO-50HC
(由东建株式会社提供)
(由东建株式会社提供)
定制图表制造示例

EUV 反射图
多层膜:Mo/Si,波长 13.5 nm,吸收体:Ta
多层膜:Mo/Si,波长 13.5 nm,吸收体:Ta
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