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纳米压印模具定制

以丰富的实际成果和积累的技术、经验应对顾客的独自规格

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纳米压印技术正在加速应用于各个领域。我们提供各种研究、开发、应用、产品化步骤所需的纳米压印模具。

作为半导体微细加工技术的应用,我们提供纳米压印模具已有 20 多年的历史。在此期间,我们得到了众多客户的指导,在提供1000多个模具方面拥有丰富的经验。
我们收到了来自半导体、光学、IT、生物和医疗等广泛领域的大学、研究机构、公司和客户的订单。

纳米压印模具的微细加工技术及制造技术

■模具材料

可指定石英、硅、SiC、Ni等与您的纳米压印相对应的材料。

■极细

从最小20 nm图案到μm级。高纵横比也是可能的。

■图案

支持从单一模式重复排列到电路模式等复杂模式。

■多级差模式

我们还提供用于全息图等的多层次台阶图案。

■三维形状

加工各种形状,包括微镜阵列 (MLA) ,防反射体 (莫氏结构) ,逆方锤图案。

■高形状精度

关于加工形状,也被评价为切边很好。通过侧壁控制的锥度、反锥度形状的微细构造也可以对应。请商量。

纳米压印用模具制作委托流程

首先请咨询

在定制模具中,事先的会议非常重要。首先请联系客人您的希望和印象。对于详细的咨询和问题,我们也会认真回答。
 

定制模具订购流程

定制模制精细图案加工示例

这是NTT-AT对各种形状和尺寸的纳米压印模具进行微细加工的一个例子。请随时就您所需的图案、基材类型等与我们联系。

极细图形 高宽高比模式

一种纳米压印用模制半定制极微细图案
36 nm间隔点

高宽高比模式
纵横比10

  • 基板:石英、硅、SiO2/Si、Ni、SiC
  • 最小图案间距:35 nm左右(最小间距取决于电路板和图案。)
  • 深度:从20 nm
  • 图案:L&S、点、孔、环
  • 基板:硅
  • 图案间距:从50 nm
  • 深度:从100 nm
  • 图案:线、L&S
多级模式 V沟型、断路型图案

多级模式

八级模式

V沟型、断路型图案

1μm间距V形槽

  • 衬底:石英、硅、SiO2/Si、Ni电铸
  • 最小模式:起始于250纳米
  • 级别数:最多8个级别
  • 电平深度:从50 nm
  • 总深度:最大20μm
  • 基板:硅
  • 图案间距:从100 nm
  • 深度:从50 nm
锥形图案 (Moth-eye结构) 球面图案 (微透镜)

锥形图案 (Moth-eye结构)

八级模式

球面图案 (微透镜)

1μm, Zag 0.3μm

  • 基片:石英、Ni电铸
  • 图案间距:从200 nm
  • 深度:100至1000 nm
  • 数组:正方形数组、三角形数组、随机数组
  • 基材:石英、硅、SiO 2 /Si、Ni 电铸
  • 图案间距:1至250纳米
  • 形状:球面
  • 数组:正方形数组、三角形数组、随机数组
四角锥图形 深堀图案

四角锥图形

四角锥形阵列

深堀图案

高40μm圆柱模式

  • 基板:硅
  • 图案间距:从500 nm
  • 深度:从300 nm
  • 基片:石英
  • 深度:至100μm

 

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