- Ideal für die Längen- und Winkelkalibrierung von Rastersondenmikroskopen usw. Unverzichtbar für die Auswertung feiner Muster
- Niedriger Preis und kurze Lieferzeit
* Wir akzeptieren auch Sonderbestellungen für ultrafeine Muster mit einem Abstand von 100 nm oder weniger.
Merkmale/Spezifikationen
Vertikaler Typ (AS100P-D) | Geneigter Typ (AS200P-A) | |
---|---|---|
Verwendungszweck | Längenkalibrierung, Sondenformauswertung | Winkelkalibrierung |
Besonderheit |
|
|
Neigungswinkel | 90 Grad | 54,74 Grad |
Muster-Art | 1:1 L&S (konkav außerhalb des Musterbereichs) | 400 nm L&S 400-nm-Raster 200 nm L&S 100 nmL&S oder mehr 4 Typen |
Linienbreite (konvex). | 50-250nm | 100-400nm |
Mustertiefe | 125nm±20% | 100–200 nm (Standard) |
Musterbereich | 200 μm × 200 μm | 184 μm × 184 μm × 4 (Saat) |
Substrat | Si 10 mm × 10 mm × 0,525 mmt | Si 10 mm × 10 mm × 0,525 mmt |
*Wir bieten günstige Preise und kurze Lieferzeiten. Sie können uns gerne kontaktieren.
Vertikaler Typ (AS100P-D)

L&S-Querschnitt mit 100-nm-Abstand
Geneigter Typ (AS200P-A)
AFM-Beobachtungsbild(Einheit: horizontale Richtung: μm, vertikale Richtung: nm)

400-nm-Pitch-L&S-Muster

800-nm-Rasterraster
Kundenspezifisches Bestellbeispiel
TEM-Bild

L&S-Querschnitt mit 50 nm Abstand