Besonderheit
W/B4C-Mehrschichtpolarisator
Im EUV-Bereich und im weichen Röntgenbereich, wo der Brechungsindex des Materials nahe bei 1 liegt, beträgt der Brewster-Winkel etwa 45 Grad. Daher weist der mehrschichtige Spiegel für den Einsatz um 45 Grad nur für s-polarisiertes Licht ein hohes Reflexionsvermögen auf und fungiert auch als Polarisator. Unter Ausnutzung dieser Eigenschaft bieten wir mehrschichtige Filmpolarisatoren mit ausreichender Effizienz von ca. 30 eV bis 800 eV (1,5 nm – 40 nm) an.
Diese mehrschichtigen Filmpolarisatoren werden nicht nur für Experimente zu physikalischen Eigenschaften mit Synchrotronstrahlung und Oberwellen höherer Ordnung verwendet, sondern auch für die Grundlagenforschung für industrielle Anwendungen wie die EUV-Lithographie.
Diese mehrschichtigen Filmpolarisatoren werden nicht nur für Experimente zu physikalischen Eigenschaften mit Synchrotronstrahlung und Oberwellen höherer Ordnung verwendet, sondern auch für die Grundlagenforschung für industrielle Anwendungen wie die EUV-Lithographie.
Gestaltungsbeispiel
Durchgezogene Linie: s-polarisiertes Licht, gestrichelte Linie: p-polarisiertes Licht
Polarisator für Energie 60 eV
Polarisator für Energie 90 eV
Polarisator für abhängige Energie 150 eV
Polarisator für Energie 300 eV
Typische Spezifikationen
Die Substratform und -beschichtung gestalten wir nach Ihren Wünschen.
Typische Spezifikationen | |
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Grundgröße | 10 mm x 10 mm x 1 mm Dicke |
Substratmaterial | Si |
mehrschichtiges Material | SiC/Mg, Zr/AlSi, Mo/Si, Ru/B4C, W/B4C |
Kompatibler Energiebereich | 30 eV - 800 eV |
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