Miroir multicouche Ru/B4C (150 eV - 100 eV)
pour 150 eV
Réflectance de 33 %, bande passante de 3,1 eV
Réflectance 31 %, bande passante 1,9 eV
pour 120 eV
Réflectance 40 %, bande passante 2,2 eV
Réflectance 40 %, bande passante 4,5 eV
pour 100 eV
Réflectance 41 %, bande passante 3,3 eV
Réflectance 41 %, bande passante 6,6 eV
Miroir multicouche Mo/Si (95 eV - 70 eV)
pour 90 eV
Réflectance de 68 %, bande passante de 3,5 eV
Réflectance de 67 %, bande passante de 6,1 eV
pour 80 eV
Réflectance 61 %, bande passante 3,1 eV
60 % de réflexion, bande passante de 7,7 eV
Miroir multicouche Zr/AlSi (70 eV - 50 eV)
pour 70 eV
Réflectance 59 %, bande passante 2,8 eV
Réflectance 59 %, bande passante 4,4 eV
pour 60 eV
Réflectance 49 %, bande passante 3,3 eV
Réflectance 49 %, bande passante 6,3 eV
pour 50 eV
Réflectance 32 %, bande passante 4,9 eV
Réflectance 32 %, bande passante 9,6 eV
Miroir multicouche SiC/Mg (45 eV - 20 eV)
pour 40 eV
Réflectance 48 %, bande passante 2,5 eV
Réflectance 48 %, bande passante 3,0 eV
pour 30 eV
Réflectance de 44 %, bande passante de 3,1 eV
Réflectance de 45 %, bande passante de 3,8 eV
pour 20 eV
Réflectance 41 %, bande passante 3,1 eV
46% de réflexion
Spécifications standards du produit
Modèle standard | EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f) |
---|---|
(a) Matériau de film multicouche | Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg |
(b) Type réfléchissant | H : haute réflectivité, N : bande étroite, B : large bande |
(c) Angle d'incidence | 0 degrés - 60 degrés |
(d) énergie centrale | 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm) |
(b) Taille du substrat | 1025 : 1 pouce de diamètre x 0,25 pouce d'épaisseur 0525 : 0,5" de diamètre x 0,25" d'épaisseur |
(c) Type de substrat | F : plat, C : concave (rayon de courbure 100 mm - 3000 mm) |
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