特征
W/B4C多层膜偏振器
在EUV区域和软X射线区域,材料的折射率接近1,布儒斯特角约为45度。因此,45度左右使用的多层镜仅对s偏振光具有高反射率,并且还起到偏振器的作用。利用这一特性,我们提供具有足够效率的多层偏振器,效率范围为约 30 eV 至 800 eV (1.5 nm - 40 nm)。
这些多层偏振片不仅可用于使用同步加速器辐射和高次谐波的物理性能实验,还可用于 EUV 光刻等工业应用的基础研究。
这些多层偏振片不仅可用于使用同步加速器辐射和高次谐波的物理性能实验,还可用于 EUV 光刻等工业应用的基础研究。
设计示例
实线:s偏振光,虚线:p偏振光
能量60 eV偏振器
能量90 eV偏振器
依赖能150 eV用偏振器
能量300 eV偏振器
代表性规格
我们会根据您的要求进行基板形状设计和涂层设计。
代表性规格 | |
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基础尺寸 | 10毫米x 10毫米x 1毫米厚 |
基板材料 | Si |
多层膜材料 | SiC/Mg, Zr/AlSi, Mo/Si, Ru/B4C, W/B4C |
对应能域 | 30 eV - 800 eV |
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