SiC膜SiN膜

這是一種 SiC 或 SiN 薄膜膜，用作 X 射線分析和電子束分析（SEM、TEM）的標準樣品架。

它可以根據您的需求進行定制，如下所示。

• 用作薄膜靶或分束器的金屬薄膜形成。
• 形成用於光束成型元件的狹縫和針孔。
• 用於作為軟X線或電子束透過元件的輔助50 nm厚膜 (SiN)

標準規格

	SiC	SiN (絕緣)
材質	非晶或多晶	非晶SiN
厚度	100 nm ~ 2 μm	50 nm ~ 2 μm
窗口尺寸	0.1 mm~10 mm見方 (視厚度而定)
切割晶片尺寸	2.1 mm~20 mm見方
框架厚度	0.2 mm ~ 0.625mm
基板	直徑4英寸硅基板
選項	金屬塗層，形成狹縫/針孔

用途

• X射線、電子束、EUV分析用樣品固定器
• 化學、生物分析用液槽窗材
• 真空窗
• 透射型X射線光學元件用支撐件

生產實例