特征
X射線圖像SEM圖像
X射線顯微鏡作為高解析度成像方法應用於各個領域，但需要具有足夠高解析度的圖表來進行評估。NTT-AT的 X 射線圖具有在 SiC 和 SiN 膜上形成的高清鉭 (Ta) 吸收體圖案，用於世界各地同步加速器輻射設施的分辨率評估。
根據您的應用，您可以選擇三種類型：標準型、厚膜高解析度型和超高解析度型。我們也提供 EUV 區域的反射圖表。
根據您的應用，您可以選擇三種類型：標準型、厚膜高解析度型和超高解析度型。我們也提供 EUV 區域的反射圖表。
標準規格
| 條目 | 標準型 XRESO-100 |
厚膜高分辨率型 XRESO-50HC |
超高分辨率型 XRESO-20 |
|
|---|---|---|---|---|
| 帕坦 | 吸收體 | Ta, 1.0μm厚 | Ta, 500 nm厚 | Ta, 100 nm厚 |
| 最小尺寸 | 100 nm | 50 nm | 20 nm (徑向圖案) | |
| 模式區域 | 250 µm×350 µm |
300 µm×300 µm
|
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| 薄膜 | Ru (20 nm)/SiN (2 µm) | Ru (20 nm)/SiC (200 nm)/SiN (50 nm) | ||
| 基板 | 材質、外形 | Si, 10 mm×10 mm | ||
| 厚度 | 1 mm | 0.625 mm | ||
(a)X線圖部 (b) Ru/SiN膜 (c) Si基板 (d) Ta吸收體
※記載的規格等為了改良產品，可能會有變更。請諒解。
代表模式SEM圖像
放射狀圖案
(XRSO-20)
(XRSO-20)
100 nm 孔圖案
(XRESO-20)
(XRESO-20)
50 nm 線和空間圖案
(XRSO-20)
(XRSO-20)
50 nm 線和空間圖案
(XRESO-50HC)
(XRESO-50HC)
圖案佈局
超高解析度型XRESO-20
①放射狀圖案，②100 nm孔圖案，③50 nm線與空間圖案
①放射狀圖案，②100 nm孔圖案，③50 nm線與空間圖案
厚膜高分辨率型XRESO-50HC
①放射狀圖案，②50 nm線&空間圖案
①放射狀圖案，②50 nm線&空間圖案
標準型XRESO-100
成像示例
檢測設備：Token TUX-5000F，圖表：XRESO-50HC
（株式會社東建提供）
（株式會社東建提供）
定制圖表制造示例
EUV 反射圖
多層膜：Mo/Si，波長 13.5 nm，吸收體：Ta
多層膜：Mo/Si，波長 13.5 nm，吸收體：Ta
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特寫