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納米壓印模具定制

以豐富的實際成果和積累的技術、經驗應對顧客的獨自規格

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納米壓印技術正在加速應用於各個領域。我們提供各種研究、開發、應用、產品化步驟所需的納米壓印模具。

作為半導體微細加工技術的應用,我們提供納米壓印模具已有 20 多年的歷史。在此期間,我們得到了眾多客戶的指導,在提供1000多個模具方面擁有豐富的經驗。
我們收到來自半導體、光學、IT、生物和醫療等廣泛領域的大學、研究機構、公司和客戶的訂單。

納米壓印模具的微細加工技術及制造技術

■模具材料

可指定石英、硅、SiC、Ni等與您的納米壓印相對應的材料。

■極細

從最小20 nm圖案到μm級。高縱橫比也是可能的。

■圖案

支持從單一模式重復排列到電路模式等復雜模式。

■多級差模式

我們還提供用於全息圖等的多層次臺階圖案。

■三維形狀

加工各種形狀,包括微鏡陣列 (MLA) ,防反射體 (莫氏結構) ,逆方錘圖案。

■高形狀精度

關於加工形狀,也被評價為切邊很好。通過側壁控制的錐度、反錐度形狀的微細構造也可以對應。請商量。

納米壓印用模具制作委托流程

首先請咨詢

在定制模具中,事先的會議非常重要。首先請聯係客人您的希望和印象。對於詳細的咨詢和問題,我們也會認真回答。
 

定制模具訂購流程

定制模制精細圖案加工示例

這是NTT-AT對各種形狀和尺寸的納米壓印模具進行微細加工的一個例子。請隨時就您所需的圖案、基材類型等與我們聯繫。

極細圖形 高寬高比模式

一種納米壓印用模制半定制極微細圖案
36 nm間隔點

高寬高比模式
縱橫比10

  • 基板:石英、硅、SiO2/Si、Ni、SiC
  • 最小圖案間距:35 nm左右(最小間距取決於電路板和圖案。)
  • 深度:從20 nm
  • 圖案:L&S、點、孔、環
  • 基板:硅
  • 圖案間距:從50 nm
  • 深度:從100 nm
  • 圖案:線、L&S
多級模式 V溝型、斷路型圖案

多級模式

八級模式

V溝型、斷路型圖案

1μm間距V形槽

  • 襯底:石英、硅、SiO2/Si、Ni電鑄
  • 最小模式:起始於250納米
  • 級別數:最多8個級別
  • 電平深度:從50 nm
  • 總深度:最大20μm
  • 基板:硅
  • 圖案間距:從100 nm
  • 深度:從50 nm
錐形圖案 (Moth-eye結構) 球面圖案 (微透鏡)

錐形圖案 (Moth-eye結構)

八級模式

球面圖案 (微透鏡)

1μm, Zag 0.3μm

  • 基片:石英、Ni電鑄
  • 圖案間距:從200 nm
  • 深度:100至1000 nm
  • 數組:正方形數組、三角形數組、隨機數組
  • 基材:石英、矽、SiO 2 /Si、Ni 電鑄
  • 圖案間距:1至250納米
  • 形狀:球面
  • 數組:正方形數組、三角形數組、隨機數組
四角錐圖形 深堀圖案

四角錐圖形

四角錐形陣列

深堀圖案

高40μm圓柱模式

  • 基板:硅
  • 圖案間距:從500 nm
  • 深度:從300 nm
  • 基片:石英
  • 深度:至100μm

 

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