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軟X射線多層膜偏振器

提供用於EUV區域和軟X射線區域的反射型偏振器

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特征

偏光子の画像
W/B4C多層膜偏振器
在EUV區域和軟X射線區域,材料的折射率接近1,布儒斯特角約為45度。因此,45度左右使用的多層鏡僅對s偏振光具有高反射率,並且還起到偏振器的作用。利用此特性,我們提供具有足夠效率的多層膜偏振片,效率範圍約 30 eV 至 800 eV (1.5 nm - 40 nm)。
這些多層偏振片不僅可用於使用同步加速器輻射和高次諧波的物理性能實驗,還可用於 EUV 光刻等工業應用的基礎研究。

設計示例

實線:s偏振光,虛線:p偏振光

グラフ
      能量60 eV偏振器
 
グラフ
             能量90 eV偏振器
 
グラフ
      依賴能150 eV用偏振器
 
グラフ
            能量300 eV偏振器
 

代表性規格

我們會根據您的要求進行基板形狀設計和塗層設計。

  代表性規格
基礎尺寸 10毫米x 10毫米x 1毫米厚
基板材料 Si
多層膜材料 SiC/Mg, Zr/AlSi, Mo/Si, Ru/B4C, W/B4C
對應能域 30 eV - 800 eV

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