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CS ManTech 2014

化合物半導体製造技術に関する国際会議

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半導体製造技術に関わる国際会議 CS Mantech イベント情報

 

来る2014年5月19日(月)~22日(木)、米国・コロラド州デンバーにて開催される、「CS ManTech(The International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology)」に出展いたします。弊社では、加圧オーブンや超臨界乾燥装置等を出展して皆様のお越しをお待ちしております。

arrow.gif 公式サイト(主催会社ページ)

arrow.gif 展示会場フロアマップ(主催会社ページ)

 >> 入場料:無料(国際会議参加者に限る)

超臨界乾洗浄燥装置、加圧オーブンなど先端的微細構造形成に必要な半導体プロセス装置のご紹介です。
写真は全自動加圧オーブン PCOA-01Tです。


窒化物エピタキシャルウェハの用途はRF,パワー系等の電子デバイス用材料があります。
携帯基地局用パワーデバイスや
車載用パワーデバイス、
家電用パワーデバイス、
耐環境デバイスなど
 

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