Die Nanoimprint-Technologie wird zunehmend auf verschiedenen Gebieten angewendet. Wir bieten Nanoimprint-Formen, die in verschiedenen Schritten der Forschung, Entwicklung, Anwendung und Kommerzialisierung benötigt werden.
Wir bieten seit mehr als 20 Jahren Nanoimprint-Formen als Anwendung der Halbleiter-Mikrofabrikationstechnologie an. In dieser Zeit wurden wir von vielen Kunden beraten und verfügen über einen reichen Erfahrungsschatz bei der Bereitstellung von über 1000 Formen.
Wir erhalten Aufträge von Universitäten, Forschungsinstituten, Unternehmen und Kunden aus den unterschiedlichsten Bereichen wie Halbleiter, Optik, IT, Bio und Medizin.
Nanoimprint-Formen-Mikrofabrikationstechnologie und Fertigungs-Know-how
■ Formmaterial
Materialien wie Quarz, Silizium, SiC und Ni können gemäß dem Nanoimprint des Kunden spezifiziert werden.
■ Vorzüglich
Von einem minimalen 20-nm-Muster bis zur μm-Größenordnung. Auch hohe Seitenverhältnisse sind möglich.
■ Muster
Wir können alles verarbeiten, von wiederholten Anordnungen einzelner Muster bis hin zu komplexen Mustern wie Schaltungsmustern.
■ Mehrstufiges Muster
Wir bieten auch mehrstufige Stufenmuster für Hologramme usw. an.
■ Dreidimensionale Form
Verschiedene Formen wie winzige Mikrolinsenarrays (MLA), Antireflexionskörper (Mottenaugenstrukturen) und umgekehrte quadratische Pyramidenmuster werden verarbeitet.
■ Hohe Formgenauigkeit
Auch die Bearbeitungsform wird als scharfe Kante gewertet. Wir unterstützen auch verjüngte und umgekehrt verjüngte Mikrostrukturen durch Seitenwandkontrolle. Bitte kontaktieren Sie uns.
Ablauf der Anfrage zur Herstellung von Nanoimprint-Formen
Sie können uns gerne kontaktieren
Bei Sonderformen ist eine vorherige Absprache sehr wichtig. Bitte kontaktieren Sie uns zunächst mit Ihren Wünschen und Vorstellungen. Auf ausführliche Beratungen und Fragen gehen wir sorgfältig ein.
Kundenspezifische Form Verarbeitungsbeispiel für feine Muster
Dies ist ein Beispiel für die Mikrofabrikation von Nanoimprint-Formen in verschiedenen Formen und Größen durch NTT-AT. Bitte kontaktieren Sie uns bezüglich Ihres gewünschten Musters, Substrattyps usw.
Ultrafeines Muster | Muster mit hohem Seitenverhältnis |
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mehrstufiges Muster | V-Nut-Typ, Blaze-Typ-Muster |
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8-Level-Muster |
V-Rille mit 1 μm Teilung |
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Konisches Muster (Mottenaugenstruktur) | Sphärisches Muster (Mikrolinse) |
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8-Level-Muster |
1 μm, zack 0,3 μm |
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viereckiges Pyramidenmuster | Fukahori-Muster |
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quadratisches Pyramidenmuster-Array |
Zylindrisches Muster mit 40 μm Höhe |
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