さまざまな分野への応用が加速しているナノインプリント技術。研究・開発・応用・製品化のさまざまなステップで必要となるナノインプリント用モールドをご提供します。
弊社は半導体微細加工技術の応用として、20年以上前からナノインプリント用モールドをご提供してまいりました。この間多くのお客様からのご指導いただき、1000点以上のモールドをご提供してきた豊富な実績があります。
大学・研究機関・企業、また半導体・光・IT・バイオ・メディカル等の広い分野のお客様からご用命を賜わっております。
ナノインプリント用モールド微細加工技術・製造ノウハウ
■モールド材料
石英・シリコンなど、お客様のナノインプリントに応じた材料をご指定いただけます。
■極微細
最小20nmのパターンからμmオーダまで。高いアスペクト比も可能です。
■パターン
単一パターンの繰返配列から、回路パターン等の複雑なパターンまでご対応します。
■多段差パターン
ホログラムなどに用いるマルチレベル段差パターンもご提供しています。
■三次元形状
マイクロレンズアレイ(MLA)や逆四角錘パターンをはじめ、さまざまな形状を加工します。
ナノインプリント用モールド製作依頼の流れ
まずはご相談ください
カスタムモールドでは事前のお打合せがとても重要です。まずはお客様のご希望やイメージをご連絡ください。細かいご相談やご質問にも丁寧におこたえいたします。
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