全反射蛍光X線分析 TXRF

全反射蛍光X線分析応用例 詳細なマッピングデータからウエハの汚染分布を明らかにします！

半導体製造の歩留まりや製品性能の低下を引き起こす一因となる、ウエハハンドリングツールからウエハへの転写汚染。ここでは、Sweeping-TXRFを用いて汚染分布と汚染量を評価した事例を紹介します。