ホーム > 材料分析サービス > 化学分析 > 全反射蛍光X線分析 TXRF > 全反射蛍光X線分析 TXRF

全反射蛍光X線分析 TXRF

営業部門 TEL 046-270-2075 (受付9:00~17:00)土日祝日年末年始を除く平日
お問い合わせフォーム
半導体メーカーの方へ
半導体製造プロセスに必要な清浄度の管理評価にお応えします!

半導体製造プロセスでの汚染を防ぐために・・・

半導体の製造において清浄度は品質を決める重要なポイントです。

製造工程における汚染を確認する必要があります。

迅速に、高感度に、かつ多くの元素を検出できる分析方法が必要です。

こんなことでお困りなら、NTT-ATの全反射蛍光X線分析を!

NTT-ATの全反射蛍光X線分析を!

現在の分析方法で、こんなお悩みはありませんか?

  • 分析に時間がかかりすぎる。
  • 感度が足りない。
  • 汚染箇所の特定が難しい。
  • 検出できる元素が少ない。

・異種基板や膜付基板が対象外。

NTT-ATの全反射蛍光X線分析なら

■迅速

サンプル受付後、1~2営業日での対応が可能です。

■高感度

  • 109atoms/cm2レベルの高感度。
  • 非破壊・非接触で煩雑な前処理が不要なため、コンタミネーションを抑制。
  • 面内分布を取ることで、汚染箇所を特定。

■多元素

  • 多元素同時分析。(※)
  • 異種基板(サファイア、GaAs、ガラス)や膜付基板(有機膜、金属膜等)にも対応

■広範囲な適用サイズ

  • 2インチ~12インチ
    ※小径サイズ応相談

※検出元素に制限があります。ご相談ください。

分析の仕組み

図1 装置概要

高感度、多元素分析の理由はトリプルビーム

3種類のX線源(トリプルビーム)により、Wビームでは高感度に測定できないナトリウム(Na)、モリブデン(Mo)等の元素も高感度に評価する事が出来ます。

図2 全反射蛍光X線分析の検出下限値(シリコンウエハ)

 

異なるビームでも同じ元素を測定する事が出来ますが、感度や妨害ピークによる干渉を考慮し、最適なビームを選択する事が出来ます。

測定可能元素

Na~U
index_txrf_001.gif
分析可能な元素についてはご相談ください。

3種類のX線源別の測定可能元素

Crビーム Na~Ti及びGa~Ba (特にNa~Al、Pに対して効果的です
Wビーム Al~Zn及びAs~Hf (特にK~Znに対して効果的です)
Agビーム S~U (特にAs、Zr、Mo、Ta、W、Br、Pt、Auに対して効果的です)

適用例

SiC基板表面の金属汚染評価事例
TXRF、ICP-MSにて評価した次世代パワー半導体の基板表面の極微量金属汚染事例です。

関連情報


ウエハ汚染分析
全反射蛍光X線分析(TXRF)
Sweeping-TXRF
(ウエハ全面)
 
 

製品一覧

閉じる

サービス一覧

材料分析サービス

  • 形態観察
    デバイスや材料の形態・構造、および結晶構造解析を行っております
  • 試験特性評価
    光通信材料の光学特性や、タッチパネル、ハンディ端末の指紋汚れの定量評価等

材料分析サービス

閉じる

課題解決のご提案一覧

閉じる

カタログ一覧

閉じる