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EUV多層膜ミラー設計例

20 eV - 150 eV(波長60 nm - 8 nm)用多層膜ミラーの設計例です

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Ru/B4C多層膜ミラー(150 eV - 100 eV)

150 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率33%, バンド幅3.1 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率31%, バンド幅1.9 eV

120 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率40%, バンド幅2.2 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率40%, バンド幅4.5 eV

100 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率41%, バンド幅3.3 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率41%, バンド幅6.6 eV

Mo/Si多層膜ミラー(95 eV - 70 eV)

90 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率68%, バンド幅3.5 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率67%, バンド幅6.1 eV

80 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率61%, バンド幅3.1 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率60%, バンド幅7.7 eV

Zr/AlSi多層膜ミラー(70 eV - 50 eV)

70 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率59%, バンド幅2.8 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率59%, バンド幅4.4 eV

60 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率49%, バンド幅3.3 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率49%, バンド幅6.3 eV

50 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率32%, バンド幅4.9 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率32%, バンド幅9.6 eV

SiC/Mg多層膜ミラー(45 eV - 20 eV)

40 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率48%, バンド幅2.5 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率48%, バンド幅3.0 eV

30 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率44%, バンド幅3.1 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率45%, バンド幅3.8 eV

20 eV用

グラフ AOI=0 deg.
         反射率41%, バンド幅3.1 eV
グラフ AOI=45 deg.
         反射率46%

標準品仕様

標準型式 EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f)
(a)多層膜材料 Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg
(b)反射タイプ H: 高反射率, N: ナローバンド, B: ブロードバンド
(c)入射角 0度 - 60度
(d)中心エネルギー 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm)
(b)基板サイズ 1025: 直径1インチ×厚み0.25インチ
0525: 直径0.5インチ×厚み0.25インチ
(c)基板タイプ F: 平面, C: 凹面(曲率半径100 mm - 3000 mm)

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