Ru/B4C 多層反射鏡 (150 eV - 100 eV)
150 eV用
反射率33%，帶寬3.1 eV
反射率31%，帶寬1.9 eV
120 eV用
反射率40%，帶寬2.2 eV
反射率40%，帶寬4.5 eV
100 eV用
反射率41%，帶寬3.3 eV
反射率41%，帶寬6.6 eV
Mo/Si多層膜鏡 (95 eV -70 eV)
90 eV用
反射率68%，帶寬3.5 eV
反射率67%，帶寬6.1 eV
80 eV用
反射率61%，帶寬3.1 eV
反射率60%，帶寬7.7 eV
Zr/AlSi多層膜鏡 (70 eV -50 eV)
70 eV用
反射率59%，帶寬2.8 eV
反射率59%，帶寬4.4 eV
60 eV用
反射率49%，帶寬3.3 eV
反射率49%，帶寬6.3 eV
50 eV用
反射率32%，帶寬4.9 eV
反射率32%，帶寬9.6 eV
SiC/Mg多層反射鏡 (45 eV -20 eV)
40 eV用
反射率48%，帶寬2.5 eV
反射率48%，帶寬3.0 eV
30 eV用
反射率44%，帶寬3.1 eV
反射率45%，帶寬3.8 eV
20 eV用
反射率41%，帶寬3.1 eV
反射率46%
標準規格
| 標準型號 | EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f) |
|---|---|
| (a)多層膜材料 | Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg |
| (b)反射類型 | H:高反射率，N:窄帶，B:寬帶 |
| (c)入射角 | 0度-60度 |
| (d)中心能量 | 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm) |
| (b)基板尺寸 | 1025：1 英寸直徑 x 0.25 英寸厚 0525：0.5" 直徑 x 0.25" 厚 |
| (c)基板類型 | F:平面，C:凹面 (曲率半徑100 mm -3000 mm) |
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特寫